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40 g/m2 Véu de poliéster para perfil de FRP com superfície reforçada e resistente a intempéries
Lugar de origem | China |
---|---|
Certificação | ISO 9000 |
Número do modelo | Véu de poliéster 40 g |
Quantidade de ordem mínima | 500 kg |
Preço | negotiatable |
Detalhes da embalagem | O rolo é envolvido acima com filme plástico e embalado então em um saco tecido. Geralmente 9 rolos u |
Tempo de entrega | 7 dias |
Termos de pagamento | T/T, L/C |
Habilidade da fonte | SEMANA DE 20MT A |

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xProduto não metálico | Véu de poliéster | Padrão | De forma de madeira |
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Largura | Personalizável | Aplicação | Processo do Pultrusion |
Material | Poliéster | Tamanho | Personalizável |
Resistência química | Excelente. | Peso | 40gsm |
Cor | Cinza | Tipo | Véu |
Pacote | Paleta | Código do SH | 560312 |
Destacar | Véu de poliéster reforçado,40 g/m2 Véu de poliéster,Véu de poliéster de madeira |
40 g/m2 véu de poliéster de madeira, para satisfazer as exigências do perfil de FRP semelhante ao de madeira
Introdução:
O véu de poliéster tem uma superfície muito lisa e uma forte resistência à tração, normalmente aplicada na superfície de um perfil de FRP.A variedade de perfis usam véu de poliéster para tornar a produção mais suave e bonito, enquanto o próprio produto é reforçado.
Características:
●Resolver os problemas de quebra fácil, rugas e outros sintomas quando o véu de poliéster é moldado separadamente
●Melhorar eficazmente a aparência dos produtos, melhorar o teor de resina da superfície dos produtos
●Melhorar a resistência dos produtos à intemperie com superfície resistente aos raios UV
Aplicação:
●Compatível com resinas de poliéster insaturado reinforecido, resinas de vinil-lester, resinas epóxi, resinas fenólicas e resinas de poliuretano, etc.
●O processo de moldagem inclui pultração, RTM, processo de placa contínua, etc.
●As aplicações de utilização final típicas são o perfil pultrudo de PU, o radoma da antena, a bandeja de cabos, o painel, etc.
Especificações:
30g/m2 ou 40g/2. largura máxima é 3300mm. e cortar em fita pequena está disponível para o propósito.